L'expert en nanotechnologie Antonio Facchetti a quitté le Georgia Institute of Technology aux États-Unis pour rejoindre l'Université des sciences et de la technologie de Hong Kong (HKUST). Il occupera le poste de professeur titulaire au sein du nouveau département des matériaux de l'université. Professeur Facchetti a été élu à l'Académie nationale d'ingénierie des États-Unis l'année dernière, en reconnaissance de ses contributions à l'ingénierie de matériaux et de dispositifs électroniques commercialement viables. Ses recherches portent sur les semi-conducteurs et les diélectriques pour les films minces. Ce recrutement marque un renforcement significatif des capacités de recherche de HKUST dans le domaine des matériaux avancés. L'arrivée de Facchetti devrait stimuler le développement de nouvelles technologies et de nouvelles applications dans ce domaine en pleine expansion à Hong Kong. Il est perçu comme un atout majeur pour l'établissement.