El científico de materiales y químico Antonio Facchetti, proveniente del Georgia Institute of Technology en los Estados Unidos, se ha unido a la Hong Kong University of Science and Technology como profesor titular en su recién establecido departamento de materiales. Facchetti fue elegido para la US National Academy of Engineering el año pasado por sus “contribuciones a la ingeniería de materiales y dispositivos electrónicos comercialmente viables”. Su investigación se centra en semiconductores y dieléctricos para películas delgadas. Esta incorporación representa un importante refuerzo para el departamento de materiales de HKUST. Se espera que Facchetti impulse la investigación y la innovación en el campo de la nanotecnología en Hong Kong. Su experiencia en el desarrollo de materiales electrónicos promete avances significativos en diversas aplicaciones tecnológicas. El nombramiento subraya el compromiso de HKUST con la excelencia académica y la investigación de vanguardia.