分析师表示，西方对于中国芯片制造设备潜在突破的担忧正在增加，但国产DUV光刻机并非目前荷兰ASML公司面临的最大威胁。尽管中国在DUV光刻机领域取得进展，但ASML在高端EUV光刻机市场占据主导地位，并且拥有技术和市场优势。目前，阻碍ASML发展的主要因素在于全球经济形势、地缘政治风险以及客户的需求变化。分析师指出，中国本土设备的成熟仍然需要时间，短期内难以对ASML构成直接竞争。此外，ASML与全球主要芯片制造商的长期合作关系也为其提供了稳定保障。因此，尽管中国芯片制造能力的提升值得关注，但其对ASML的直接影响有限。